GD-MS-Astrum

輝光放電是通過低壓氣體在兩個金屬電極之間施加電壓而形成電漿。當該氣體電離時，它與陰極（樣品）碰撞，將材料濺出表面，隨後將其電離並引導到質譜儀中進行定量分析。
用於GD-MS的樣品可以製備為幾平方毫米的扁平樣品（最大約30x3Omm，約20mm的厚度）或是針棒狀樣品，最大尺寸為外徑3mm，長23mm。

為了產生輝光放電，樣品必須為可導電，但是對於不導電的樣品，可以通過將不導電的材料或粉末碎片黏合或壓入高純度導體（例如7N銦）中來進行分析。

樣品池經過低溫冷卻，可以分析低熔點物質，並減少來自氣體背景物質的干擾。
 
輝光放電本身是通過在樣品與cell出口孔之間施加直流電並以氬氣為反應氣體而產生，將氬氣離子化並濺射樣品材料，然後樣品自身再被離子化。

濺射和電離在空間和時間上的分離使基質效應減到最小。在樣品池之後，因輝光放電的正離子被加速並進到質譜儀內進行分析。

質譜儀分析系統是為雙聚焦磁性扇形，當解析度為300時訊號具有平頂峰的特徵，平頂峰常用於調機，但實際上所有分析都是在解析度4000下進行的，這可消除大部分在GD-MS中發現的質量干擾。
Nu的Astrum輝光放電質譜儀的主要應用是測量高純度導電和非導電材料。

它幾乎可以定量分析所有元素（從鋰到鈾），動態濃度範圍從基質到sub-ppb等級，並具有最佳的偵測極限。

該儀器將輝光放電離子源與高解析度質譜儀相結合，提供優良的檢測結果。