五個升級至下一代ICP-OES技術的理由

五個升級至下一代ICP-OES技術的理由

1.      最大化儀器運作時間 ：

傳統ICP-OES系統需要外部冷卻系統，冷卻液容易洩漏並增加維護需求，進一步導致停機時間增加。SPECTRO引入創新的空氣冷卻技術和密封光學系統，透過UV-PLUS技術純化光學系統內部氬氣，消除外部裝置維護需求並減少氣體吹掃光學系統的消耗。此外，其快速啟動的LDMOS高壓產生器能夠在10分鐘內達到穩定狀態，確保儀器長期運作的穩定性。

2.      樣品通量改善 ：

傳統ICP-OES系統在高電漿功率負載下表現不佳，並影響樣品處理速度。SPECTRO的2000W高壓產生器可以適應快速變化的負載，配合高速GigE讀取系統和同步式光譜收集技術，大幅提高樣品光譜處理速度，實現最高的樣品測量通量。SPECTRO的ICP-OES系統可以在工作時間8小時內測到320個樣品，而其他系統只能達到140個樣品的通量。

3.      增加靈敏度和穩定性 ：

傳統的Echelle光學系統存在干擾、低波長僅低解析度和光傳輸損失等問題。SPECTRO的ORCA技術使用最先進的CMOS線性陣列檢測器，最大化光通量和偵測感度，減少雜散光，並提供更穩定的測量結果。SPECTRO的光學系統最快能夠在4秒內同時接收所有波長片段的光譜。並能在30秒內分析簡單的基質。無需額外氣體吹掃的光學系統提供極佳的長期穩定性。

4.      易於使用 ：

傳統高性能ICP-OES常常因複雜的操作手法而難以使用。如進樣系統管路複雜、儀器啟動時間較久等問題。SPECTRO根據用戶回饋改良設計，提供客戶最大程度的操作簡單性、視覺直觀性、軟體反應速度和稽核的可追溯性。

5.      最低持有成本 ：

傳統ICP-OES分析儀需要額外的水冷卻器，增加多達十萬元以上的總成本，且若液體洩漏會導致昂貴的維修和額外的停機時間。另外，儀器還需要持續的氣體吹掃，可能因氣體雜質污染光學系統而增加維修成本。SPECTRO ICP-OES採用創新的設計消除這些問題，降低終身運作和耗材成本。它們不需要單獨的冷卻系統以節省能源成本外，其密封光學系統降低氣體吹掃的成本，每年可節省數萬元的氣體費用。

結論 ：

舊型ICP-OES設計中固有的缺陷在多個面向會造成使用者的不便以及維護成本的上升。SPECTRO研發的新技術不論在儀器運轉時間、高生產力、偵測感度、測量穩定性、操作易用性和持有成本等範疇中皆改良提升，升級到SPECTRO ICP-OES系列的光譜儀，在各個應用領域上都將會是使用者的最佳選擇。